英特尔9月29日表示，已开始在位于爱尔兰价值185亿美元的工厂使用极紫外光微影（EUV）进行大批量生产，并称这是英特尔寻求重新夺回竞争对手地位的“里程碑”时刻。这也将标志著EUV首次用于欧洲批量生产。
曾经是全球领先芯片制造商的英特尔已经失去领先地位，但表示它有望凭藉其制造技术重新夺回领先地位，并称将与台积电的最佳制造技术相媲美。
英特尔技术开发总经理安·凯莱赫（Ann Kelleher）在一份声明中表示：这对于英特尔和整个半导体行业来说都是一个里程碑。
英特尔在爱尔兰莱克斯利普的Fab 34 工厂开幕活动上开始使用“Intel 4”製程大规模生产芯片。这将是极紫外微影首次在欧洲用于芯片的商业生产，也是英特尔在4年内推进5个製程节点的努力的一部分。这更是英特尔执行长季辛格承诺在芯片技术上追赶领先者台积电和三星的一部分。
该工厂的开幕将允许生产英特尔即将推出的英特尔酷睿Ultra处理器（代号为Meteor Lake）等产品，该处理器将为人工智慧PC铺平道路。
虽然英特尔正提升其名义上的4奈米製程技术，但现在台积电和三星已经采用了3奈米製程。英特尔声称其“Intel 3”将于2023年下半年“投入生产”。英特尔的路线图指出，目标是在2025年左右在2nm节点实现“製程领先”。
