近日，网络上流传着一条关于清华大学EUV光刻机工厂即将落地的消息，这引起了众多自媒体和科技界的广泛关注。
与ASML的小型化EUV光刻机不同，这款国产EUV光刻机采用了SSMB-EUV方案，其功率甚至是ASML光刻机的40倍。这一方案采用了大型加速器光源和分光器，使得多台光刻机同时工作，从而实现了光刻机的集群化生产。
人们对这一突破性的技术革新充满了期待。
然而，我们需要理性看待这个消息。事实上，这款国产EUV光刻机并非真正意义上的EUV光刻机。
近日，网络上流传着一条关于清华大学EUV光刻机工厂即将落地的消息，这引起了众多自媒体和科技界的广泛关注。
与ASML的小型化EUV光刻机不同，这款国产EUV光刻机采用了SSMB-EUV方案，其功率甚至是ASML光刻机的40倍。这一方案采用了大型加速器光源和分光器，使得多台光刻机同时工作，从而实现了光刻机的集群化生产。
人们对这一突破性的技术革新充满了期待。
然而，我们需要理性看待这个消息。事实上，这款国产EUV光刻机并非真正意义上的EUV光刻机。
